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中青年科技人员住宅楼工程施工组织设计
内容简介 本工程位于北京市海淀区清华东路甲35号，中国科学院半导体研究所家属院内北侧、北临林学院北路，建筑面积16931.01㎡（地上15015.24㎡；地下1765.26㎡），±0.00的绝对标高为48.65m，室内外高差0.45m。地下一层；地上A段十层、B段七层，且均有地下夹层，全现浇剪力墙结构，8度近震设防。- 6
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